MoSi2/NbSi2ダイシリサイドに関する論文が受理されました．
MoSi2/NbSi2ダイシリサイドに関する論文が受理されました．
T. Yamazaki, Y. Koizumi, K. Yuge, A. Chiba, K Hagihara, T. Nakano, K. Kishida, H. Inui: "Mechanisms of lamellar structure formation and Cr interfacial segregation in C11b-MoSi2/C40-NbSi2 dual phase silicide verified by a phase-field simulation incorporating elastic inhomogeneity"
Comput. Mater. Sci., in press. (2015).
